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"실리콘"(으)로 총 628건 검색되었습니다.
- 디스크백과과학동아 l1993년 02호
- 다른 새로운 디스크장치들이 등장하고 있다. CD롬 광자기디스크 플롭티컬디스크 실리콘디스크 등이 이들이다. 작은 매체에 보다 많은 정보를 편리하게 기록하고 보존하려는 디스크기술의 발전은 끝이없을 정도로 급속도로 이뤄지고 있다.현재 PC에서 널리 쓰이는 하드디스크와 플로피디스크, 이를 ... ...
- 2. 차세대 디스크 장치들과학동아 l1993년 02호
- 실리콘 디스크의 동작은 EMS(확장메모리)와 유사하다. 메인메모리인 6백40KB보다 큰 영역에 실리콘디스크와 데이터를 교환하기 위한 창이 만들어진다. 이 창을 통해 데이터 접근(access)가 이루어지며 이것은 소프트웨어적으로 처리된다.스트리머는 다른 기억매체와 성격이 조금 다른데 일종의 데이터 ... ...
- 2. 미래의 반도체 어떻게 달라지나과학동아 l1992년 11호
- 크게 실리콘과 화합물 반도체로 대별할 수 있으나, 전력소모가 작고 주파수 특성이 실리콘에 비해 우수한 갈듐비소 인듐인 같은 화합물 반도체가 MMIC제작에 주로 사용 된다. MMIC에 의한 무선통신 부품은 아직 상업용으로 개발되지 않았으나, 개발되기만 하면 위성방송수신용 TV안테나, 휴대용 전화기 ... ...
- Out Of The Sun 태양으로부터과학동아 l1992년 11호
- 못하다. 물리학적인 브라운 대학의 밴들러는 저에너지 중성미자를 더 많이 찾기 위해 실리콘(규소)웨이퍼와 초유동 헬륨액체로 만들어진 새로운 탐지기를 제안했다.중성미자에 관한 또 하나의 이론이 흥미를 끌고 있다. 이 이론은 MSW이론이라 불리는데 소련과 미국과학자들인 스타니슬라브 ... ...
- 1. 고집적 어디까지 가능한가과학동아 l1992년 11호
- 스위치 및 증폭기의 역할을 하도록 한 것인데, 보통 반도체 기판위에 절연막으로 실리콘산화막(oxide)을 입히고, 금속으로 게이트를 형성하므로, MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)구조라 불린다.커패시터는 전하를 축적하는 곳이므로 유전율이 큰 물질로 이루어져 있는데, 트랜치형 또는 스택형이 있다.1G비트 ... ...
- 원자력·의약품 분야에서 단연 선두과학동아 l1992년 10호
- 설립된 범유럽 기술협력 프로그램으로 PC와 마이크로 컴퓨터의 표준화, 비정질 실리콘 집적회로 연구, 고속 컴퓨터 개발, 레이저에 의한 의료진단장치 개발, 로봇개발 등의 사업을 수행하고 있는데 현재 1천6백여개의 기업과 연구기관이 참여하고 있다.위와 같은 EC의 공동 연구개발 프로그램을 ... ...
- 신형 콘택트렌즈과학동아 l1992년 08호
- 그 결과가 1979년에 처음 만들어진 산소투과성렌즈. 유연성이 큰 플라스틱(대개 플라스틱 실리콘으로 이뤄져 있다)으로 제조된 산소투과성렌즈는 하드렌즈의 시각적 명료함과 소프트렌즈의 부드러움을 동시에 제공한다. 기존의 어떤 소프트렌즈보다 더 많은 양의 산소를 통과시키는 ... ...
- 폐기물 재생기술은 새분야로 발전과학동아 l1992년 08호
- 처리, 공정 내에서 다시 이용할 수 있게끔 하여 마지막 폐기물을 아예 없애버리는 것이다.실리콘을 생산하는 독일 바이에르 주식회사에서는 이 생산과정에서 발생하는 디메틸실록산 처리에 드는 비용에 대해 상당한 부담을 안고 있었다. 그러나 최근 실록산을 생산공정 내에서 다른 공정의 원료로 ... ...
- '극초미니' 탐침현미경 STM과학동아 l1992년 06호
- 역되먹임함으로써 나노세계를 관찰한다. 이 현미경은 부도체에도 사용가능한데, 산업용(실리콘 웨이퍼의 관찰 등) 관찰용(DNA 등)으로 널리 쓰인다.1989년에 한스마(Hansma) 등이 개발한 ICM(ion conductance microscope)도 부도체의 원자수준관찰이 가능하다. 또 전기화학반응을 이용하는 SECM(scanning elect ...
- 국내반도체산업과학동아 l1992년 06호
- 공정용 마스크로 제작, (3) 사진공정-자외선이나 전자빔으로 마스크 상의 회로도를 실리콘 웨이퍼로 옳김. (4) 식각공정-염화물 혼합기체, 불산 초산 등을 이용해 웨이퍼표면을 회로선만 남기고 나머지 부분의 산화막은 벗겨낸다. (5) 확산공정-식각된 부분에 반도체 특성을 가지도록 인 붕소 비소 등의 ... ...
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