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"(으)로 총 32건 검색되었습니다.
PARTⅠ 개념과 실체 미래 첨단산업의 기초
과학동아
l
1989년 01호
및 불순물을 제거한 초청정 상태를 유지하여 1f${t}^{3}$당 0.5μ 입자가 1백개 이하로 된
Class
100 수준이상의 공간을 창출, 이용하는 기술을 말한다. 청정실(Clean Room)은 크게 반도체 및 초정밀 부품생산을 위한 산업용과 유전자 교환, 수술실 무균실 등의 의료용으로 구분된다. 현재까지는 반도체 생산 및 ... ...
PARTⅢ 국내 수준을 살핀다 실험실 수준 하루빨리 벗어나야
과학동아
l
1989년 01호
10
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급 청정실조차도 일괄 수입하여 사용하고 있다. 겨우 64KD램 제조시설에 불과한 100
Class
급을 모방 생산하고 있는 실정.극한기술의 연구개발을 위해서는 고가의 측정설비와 실험기기가 필요하며 이와 관련된 설계 및 가공기술이 뒷받침되어야 하는데, 우리나라의 경우 이러한 조건을 만족시키지 ... ...
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