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양성자 쬐어 치매 원인물질 제거한다
동아사이언스
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2018.07.02
혈전에 전달한 후, 투과성 양성자를 쬐어 나노 입자에서 전자를 방출하는 쿨롱 나노
라디에타
치료 기술을 연구해 왔다. 알츠하이머성 치매의 원인이 뇌에 있는 금속나노입자의 신경독성이라는 사실에 착안, 약물전달 과정을 생략하고 양성자만 투과해 금속 성분의 독성을 제거하는 연구에 나섰다. ... ...
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